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TDK | MediPlas™ 一项TDK的灭菌技术

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TDK的MediPlas™ 系统可将无毒且丰富可用的气体生成具有高灭菌效果的气态介质,用于保持医疗器械清洁。

TDK的MediPlas™ 系统可将无毒且丰富可用的气体生成具有高灭菌效果的气态介质,用于保持医疗器械清洁。它由两个模块组成,其中流式反应器用于生成具有灭菌效果的气态介质,而驱动器则为反应器供电。 


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MediPlas反应器内部会产生低温等离子体。当输入气体与等离子体接触时,气体会被电离,并且原子之间的键也会被打破。而重新组合 形成 的新分子在反应器内部会产生紫罗兰色的发光,生成具有变异化学性质的高活性气体并从出口流出。 


工作原理

根据所选的工艺参数和输入气体的类型,反应器内可以形成以下活性剂:强氧化剂,如臭氧和过氧化氢,以及用于蛋白变性的氮氧化物。 


输入气体

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湿空气

氧气 (O₂) 

O₃


超高浓度的臭氧,

高达50,000 ppm


干燥空气 

O₃
NOₓ


超高浓度的臭氧,
高达4,000 ppm
+ 氮氧化物 


湿空气 

O₃
H₂O₂
NOₓ


超高浓度的臭氧,
高达4,000 ppm
+ 过氧化氢
+ 氮氧化物(酸性)



效果易于调整


灭菌剂的确切成分可根据客户特定要求进行调整。例如,反应器每分钟最多可释放 5 升反应气体混合物。不过,臭氧的产生率取决于MediPlas驱动器的电气参数和输入气体的成分。输入气体越干燥且氧气浓度越高,反应器产生的臭氧量就越大。因此,使用干燥空气时,稳态下每小时最高可生成1克臭氧;使用纯氧则最高可达30克臭氧。 


通过热电冷却模块改变反应器的温度,并通过调节MediPlas驱动器的功率,能进一步调整输出气体。随着温度的升高,臭氧浓度会降低,氮氧化物浓度则会增加。而输入功率越高,臭氧和氮氧化物的浓度就越高。 


  原位清洗/灭菌  




原位清洗 (CIP) 是指一种无需拆卸系统的情况下进行循环或连续清洁的过程。该方法最初是为食品和饮料行业以及制药行业而开发,不过同样应用于清洁医疗器械。 


原位灭菌 (SIP) 主要用于制药和生物制品工厂,其目的不再局限于清洁设备,还包括对设备进行灭菌。通常,这些设备会用过热蒸汽或特殊化学品进行灭菌。


在过程中使用MediPlas系统能优化CIP/SIP循环。 




典型步骤


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通过MediPlas系统优化的循环


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  优势概览  




高性能

经济高效

可持续且性能可靠

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  • 浓度高达50,000 ppm的臭氧 (O₃) + 氧气 (O2)

  • 浓度高达4,000 ppm的臭氧 (O₃) + 空气 

  • 可调整气体输出的化学成分以满足特定的灭菌要求 

    周期时间短 


  • 周期成本更低 

  • 现成元件,易于集成并能可控制研发成本 

  • 可控动力学能适应定制灭菌介质,助力优化过程时间  




  • 无需耗材 

  • 功耗低(最大32 W),轻便 (630 g) 

  • 坚固耐用且紧凑 - 按照ISO 13485要求开发 

  • 德国设计,欧盟工艺



  应用  




MediPlas系统可作为清洁、灭菌或消毒系统集成到各种应用

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医疗器械的内部灭菌

医疗工具的灭菌

  牙科诊所的应用



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